掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱使基底表面由親水性變?yōu)槭杷?，增強表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。適用于硅片、麟化銦、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。
掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱應用原理
掩膜版（Photomask），又稱(chēng)光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子、集成光電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版， 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過(guò)曝光將圖形轉印到晶圓上。
掩模版在設計時(shí)有著(zhù)明場(chǎng)和暗場(chǎng)之分，在其與之光刻膠（正、負膠）曝光時(shí)可以根據工藝時(shí)的需要來(lái)選擇設計。上文已經(jīng)提到正光刻膠曝光區域被溶解，負膠則相反。
掩膜版主要由基板和遮光膜兩個(gè)部分組成?；宸譃闃?shù)脂基板和玻璃基板，玻璃基板主要包括石英基板和蘇打基板，根據遮光膜種類(lèi)的不同，可以分為硬質(zhì)遮光膜和乳膠。
掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱功能
材質(zhì)：內箱采用316L級不銹鋼
工藝溫度：100-150℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動(dòng)度：≤±0.5
真空度：≤133pa（1torr）
操作界面：人機界面，一鍵作業(yè)
層數:1-2層
HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量
圖像處理：圖像反轉
真空泵: 進(jìn)口無(wú)油泵
保護裝置：緊急停止，HMDS藥液泄漏報&警提示，HMDS低液位報&警，超溫保護，漏電保護，過(guò)熱保護等
掩膜版HMDS真空烘箱 光罩hmds烘箱 hmds預處理烤箱使基底表面由親水性變?yōu)槭杷?，增強表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。適用于硅片、麟化銦、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。
