光伏電池片HMDS處理系統，HMDS預處理烘箱就是涂膠前要進(jìn)行增粘處理。由于襯底表面吸水特性，使疏水的光刻膠無(wú)法與親水的晶圓表面結合良好。未經(jīng)過(guò)HMDS表面處理的晶圓在后道工藝中容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。
光伏電池片HMDS處理系統，HMDS預處理烘箱的作用：
電池片制備是光伏電池片生產(chǎn)中的核心環(huán)節，主要包括光刻、擴散、沉積和金屬化等工藝步驟
1.光刻:光刻工藝主要利用光刻膠和掩膜將所需的電極圖案投影到硅片表面，并通過(guò)曝光和顯影等過(guò)程形成圖案。
2.擴散:擴散工藝通過(guò)高溫將摻雜物(如磷或硼)注入硅片中，形成PN結構，從而使其具有正負電荷分離的能力。
3.沉積:沉積工藝主要是在硅片表面進(jìn)行氧化、硝化或硫化等處理，形成適當的電池片表面結構和保護層
4.金屬化:金屬化工藝將電極材料(如鋁或銀)通過(guò)蒸鍍、濺射或印刷等方法沉積在電池片表面作為電流收集和傳輸的導體。
光刻中第一步需要表面預處理，就是涂膠前要進(jìn)行增粘處理。由于襯底表面吸水特性，使疏水的光刻膠無(wú)法與親水的晶圓表面結合良好。未經(jīng)過(guò)HMDS表面處理的晶圓在后道工藝中容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。
光伏電池片HMDS處理系統，HMDS預處理烘箱技術(shù)參數
主要方法：氣相沉積
工藝步驟：HMDS烘箱在高溫條件下，達到真空狀態(tài)后開(kāi)始涂布工藝，涂布完成后烘箱內部充入N2，排出尾氣，達到常壓后方可開(kāi)門(mén)。
溫度范圍：RT+10-200℃
真空度：≤1torr
控制儀表：人機界面，自動(dòng)運行
儲液瓶：標配
真空泵：無(wú)油渦旋真空泵
數據處理：多個(gè)工藝方案，可修改并記錄，使用數據可記錄
保護裝置： 低液位報警，HMDS藥液泄漏報&警，超溫保護并斷開(kāi)加熱，漏電保護，過(guò)流保護等
