桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱采用HMDS涂布方法改變晶圓表面的親水性，從而增大晶圓表面的接觸角），增強光刻膠和晶圓的粘附力。
桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱使用工藝
光刻--就是將掩膜版上的幾何圖形轉移到涂有一層光刻膠的晶圓表面的工藝過(guò)程。典型的光刻全過(guò)程為:
晶圓表面預處理一涂膠(去邊)一前烘一 (對位) 曝光一PEB 烘一顯影一后烘一顯檢(測量)
以上步驟中的第1步表面預處理就是涂膠前要進(jìn)行增粘處理（可利用親水/疏水理論對其進(jìn)行解釋。由于襯底表面吸水特性，使疏水的光刻膠無(wú)法與親水的晶圓表面結合良好。未經(jīng)過(guò)HMDS表面處理的晶圓在后道工藝中容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。通常的方法是使用氣相沉積的方法改變表面特性，一般采用HMDS涂布方法改變晶圓表面的親水性，從而增大晶圓表面的接觸角），增強光刻膠和晶圓的粘附力。
桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱涂布方法
JS-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布HMDS化合物。HMDS烘箱在高溫條件下，達到真空狀態(tài)后開(kāi)始涂布工藝，涂布完成后烘箱內部充入N2，達到常壓后方可開(kāi)門(mén)。
溫度范圍：RT+10-250℃
真空度：≤1torr
控制儀表：人機界面，一鍵運行
儲液瓶：HMDS儲液量1000ml
真空泵：無(wú)油渦旋真空泵
數據處理：多個(gè)工藝方案，可修改并記錄，使用數據可記錄
保護裝置： 低液位報警，HMDS藥液泄漏報&警，超溫保護并斷開(kāi)加熱，超溫保護，漏電保護，過(guò)熱保護等
小型HMDS真空烤箱增粘處理的注意事項:
1)預處理完的硅片應在一定的時(shí)間內盡快涂膠，以免表面吸附空氣中的水分，降低增粘效果。但同時(shí)也要充分冷卻，因硅片的溫度對膠厚有很大的影響;
2)反復預處理反而會(huì )降低增粘效果;
3)HMDS 的瓶蓋打開(kāi)后，其壽命有限。
