六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的作用是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中，通常會(huì )用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類(lèi)襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會(huì )導致后續的光刻顯影環(huán)節出現“裂紋"甚至是漂膠等問(wèn)題。因此必須通過(guò)工藝手段改善，這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的作用
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理的工藝是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中，通常會(huì )用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類(lèi)襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會(huì )導致后續的光刻顯影環(huán)節出現“裂紋"甚至是漂膠等問(wèn)題。因此必須通過(guò)工藝手段改善，這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的性能
HMDS藥液低液位報警：
自動(dòng)吸取HMDS：
可自動(dòng)添加HMDS：
HMDS藥液泄漏報警：
HMDS氣體管路加熱系統：
參數記錄功能：
溫度與程序互鎖功能：
容積大?。?50*350*350/450*450*450/600*600*600（mm）可定制
溫度范圍：RT+10-250℃
真空度：≤133pa（1torr）
控制系統;人機界面+PLC
擱板層數:2層
HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量
真空泵: 渦旋無(wú)油泵
不正確的六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理方法
如果液體的HMDS被直接旋涂在襯底上，HMDS層只能起到物理上的粘附層的作用，并不能改善粘附性；其次，HMDS層在前烘過(guò)程中釋放出氨，從襯底附近的進(jìn)入交聯(lián)的光刻膠層中，從而抑制顯影過(guò)程。
