HMDS 烘箱是將HMDS蒸汽通過(guò)干燥的真空腔內加熱到(120-150°C)，在襯底表面上HMDS作為單層膜進(jìn)行化學(xué)結合。
HMDS 烘箱原理
HMDS 烘箱也稱(chēng)為HMDS預處理系統，HMDS蒸鍍機等，是將HMDS蒸汽通過(guò)干燥的真空腔內加熱到(120-150°C)，在襯底表面上HMDS作為單層膜進(jìn)行化學(xué)結合，使這樣的襯底表面具有疏水性。
HMDS 烘箱技術(shù)指標
溫度范圍：RT+10-250℃
真空度：≤133pa（1torr）
控制儀表：人機界面，一鍵運行
HMDS控制：可設定
HMDS工藝：進(jìn)入腔體到尾氣排出*密閉，無(wú)任何泄漏
安全檢測：在線(xiàn)檢測，HMDS泄漏警 報提示
儲液瓶：HMDS儲液瓶
真空泵：無(wú)油渦旋真空泵
規格尺寸（mm）：300*300*300/450*450*450、定制
數據記錄：開(kāi)機、待機、升溫、壓力等數據記錄
功能：脫水烘烤、增粘劑蒸鍍、后烘
用途 ：將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著(zhù)偶聯(lián)劑的作用。
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