HMDS烤箱將HMDS涂到LED、半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著(zhù)偶聯(lián)劑的作用。均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
HMDS烤箱
1、機外殼采用冷軋板烤漆處理，內膽為不銹鋼316L材料制成；加熱器均勻分布在內膽外壁四周，內膽內無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防雙層玻璃門(mén)觀(guān)察工作室內物體一目了然。
2、箱門(mén)閉合松緊能調節，整體成型的硅橡膠門(mén)封圈，確保箱內高真空度。
3、微電腦智能控溫儀，具有設定，測定溫度雙數字顯示和PID自整定功能，控溫精確，可靠。
4、智能化觸摸屏控制系統配套日本三菱PLC模塊可供用戶(hù)根據不同制程條件改變程序，溫度，真空度及每一程序時(shí)間。
5、HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設計，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。
6、整個(gè)系統采用優(yōu)質(zhì)材料制造，無(wú)發(fā)塵材料，適用100 級光刻間凈化環(huán)境。
HMDS烤箱
在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個(gè)工藝環(huán)節，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì )侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著(zhù)偶聯(lián)劑的作用。
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| 設備名稱(chēng) |
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| 設備型號 | JS-HMDS90 |
| 設備主要技術(shù)參數 | |
| 工作室尺寸 | 450×450×450（mm），可自定尺寸 |
| 材質(zhì) | 外箱采用304不銹鋼或優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑，內箱采用316L醫用級不銹鋼 |
| 溫度范圍 | RT+10-250℃ |
| 溫度分辨率 | 0.1℃ |
| 溫度波動(dòng)度 | ±0.5℃ |
| 真空度 | ≤133pa（1torr） |
| 潔凈度 | class 100，設備采用無(wú)塵材料，適用100級光刻間凈化環(huán)境 |
| 電源及總功率 | AC 220V±10% / 50HZ 總功率約2.0KW |
| 控制儀表 | 人機界面 |
| 擱板層數 | 2層 |
| HMDS加液 | 自動(dòng)加液（可選擇） |
| 真空泵 | 旋片式油泵（進(jìn)口無(wú)油干泵） |
| 保護裝置 | 漏電保護，過(guò)熱保護 |
