HMDS烘箱、HMDS預處理系統降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。
HMDS烘箱、HMDS預處理系統
HMDS烘箱、HMDS預處理系統主要用途
HMDS預處理系統通過(guò)對烘箱預處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。
HMDS烘箱HMDS預處理的必要性
在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個(gè)工藝環(huán)節，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì )侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅胺)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著(zhù)偶聯(lián)劑的作用。
主要技術(shù)參數
1 工作室尺寸 300×300×300，450×450×450，550×650×550（mm）可自定
2 材質(zhì) 外箱采用304不銹鋼/冷軋板噴塑，內箱采用316L醫用級不銹鋼
3 溫度范圍 RT+10-250℃
4 溫度分辨率 0.1℃
5 溫度波動(dòng)度 ≤±0.5℃
6 真空度 ≤133pa（1torr）
7 潔凈度 class 100，適用100級光刻間凈化環(huán)境
8 真空泵 旋片式油泵/干泵
9 控制儀表 人機界面
10擱板層數 2層
HMDS烘箱、HMDS預處理系統特點(diǎn)
5.1預處理性能更好 由于是在經(jīng)過(guò)數次的氮氣置換再進(jìn)行的HMDS處理，所以不會(huì )有塵埃的干擾，再者，由于該系統是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在容器里先經(jīng)過(guò)100℃-160℃的去水烘烤，再接著(zhù)進(jìn)行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機會(huì )大大降低，所以有著(zhù)更好的處理效果。
5.2處理更加均勻 由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。
5.3 效率高 液態(tài)涂布是單片操作，而本系統一次可以處理多達8盒（4寸）的晶片。
5.4更加節省藥液 實(shí)踐證明，用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統處理4盒晶片所用藥液還多。
5.5更加環(huán)保和安全 整個(gè)過(guò)程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會(huì )有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機，所以也不會(huì )對環(huán)境造成污染。
5.6自動(dòng)吸取HMDS功能 智能型的程式設定，一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設計，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。
