半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱

半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱性能介紹：

半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱

是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環(huán)。經(jīng)耐高溫高效空氣過(guò)濾器過(guò)濾，使烘箱工作室內處于無(wú)塵狀態(tài)。潔凈烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。工作室內溫度采用智能式數顯溫度控制儀進(jìn)行自動(dòng)控制P.I.D調節,數顯時(shí)間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。
半導體光刻烤箱，晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱

可滿(mǎn)足電子電器、醫藥、實(shí)驗室等生產(chǎn)及科研部門(mén)中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進(jìn)出口。

、光刻涂膠用烘箱技術(shù)參數：      

1．內部尺寸：600*500*750（mm） （內尺寸可選擇）

2．內箱分層：三層

3. 溫度范圍：RT＋10℃～300℃。

4．溫度波動(dòng)：<±1℃。

5．溫度均勻：±2%（空載測試）。

  依測規范：測SENSOR置放點(diǎn)，離內箱壁內尺寸1／10處。

6．溫控裝置：高精度P.I.D智能溫控儀表， LED數字顯示及設定、P.I.D自動(dòng)演算、時(shí)間定時(shí)。

溫控輸出：SSR輸出，品牌繼電器，固態(tài)繼電器。                    

測溫裝置：1支PT100 鉑 電阻溫度傳感裝置，測溫精確。

氣體控制裝置：高效過(guò)濾氣體中微粒。

7．內室材料：采用無(wú)磁性鏡面不銹鋼；外箱采用 SS41# 中碳鋼板經(jīng)磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆，可防止微塵(PARTICLE) 。

8．保溫材質(zhì)：硅酸鋁。

9．特質(zhì)復合式SUS304＃不銹鋼電熱產(chǎn)生器。

保護裝置：超溫保護器，無(wú)熔絲開(kāi)關(guān)。