HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理

HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理的應用

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理的工藝是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中，通常會(huì )用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類(lèi)襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會(huì )導致后續的光刻顯影環(huán)節出現“裂紋"甚至是漂膠等問(wèn)題。因此必須通過(guò)工藝手段改善，這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏，也稱(chēng)為HMDS預處理。

HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理設備

  JS-HMDS90 是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在箱內先經(jīng)過(guò)100℃-200℃的去水烘烤，再進(jìn)行HMDS處理，不需要從箱內傳出，而接觸到空氣，晶片吸收水分子的機會(huì )大大降低，所以有更好的處理效果。

  HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理設備將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。

HMDS藥液低液位報警：

自動(dòng)吸取HMDS：

可自動(dòng)添加HMDS：

HMDS藥液泄漏報警：

HMDS氣體管路加熱系統：

參數記錄功能：

溫度與程序互鎖功能：

容積大?。?50*350*350/450*450*450（mm）可定制

溫度范圍：RT+10-250℃

真空度：≤133pa（1torr）       

控制系統;人機界面+PLC

擱板層數:2層

   無(wú)氧烘箱，真空無(wú)氧烘箱，無(wú)塵烘箱，HMDS烘箱，硅烷蒸鍍機，無(wú)塵無(wú)氧烘箱，氮氣烘箱，鼓風(fēng)真空烘箱，超低溫試驗箱，快溫變試驗箱，恒溫恒濕試驗箱，高低溫沖擊試驗箱等設備，以及非標定制。---上海雋思儀器專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)/服務(wù)！